真空坩埚的生产工艺特点
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作者:admin
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发布时间: 5930天前
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用电弧为热源,离心成型为基础,熔化预先成型过的高纯石英粉料,通过抽真空制造高纯度内层透明,外层乳白的石英坩埚的装置。主机包括:旋转成型机构、电极升降及开闭机构、遮热板升降机构、电弧电源装置、液压传动系统、真空系统、电控操作台系统、防音及给排风系统、吹扫清洗设备及坩埚取出工具等。
"<"p>"<"font size="4" face="Times New Roman"> 用电弧为热源,离心成型为基础,熔化预先成型过的高纯石英粉料,通过抽真空制造高纯度内层透明,外层乳白的石英坩埚的装置。主机包括:旋转成型机构、电极升降及开闭机构、遮热板升降机构、电弧电源装置、液压传动系统、真空系统、电控操作台系统、防音及给排风系统、吹扫清洗设备及坩埚取出工具等。"<"br /> 生产原理:将高纯石英粉装入可任意倾动角度的旋转成型模内,利用离心力成型,将已成坩埚形的旋转着的装置移动至电极棒处,然后将电极送电启弧,同时启动真空系统,使其快速熔化成坩埚形状的熔融石英,经冷却后取出,即完成一个石英坩埚的生产。目前,在可生产6~14英寸和14~22英寸真空坩埚的两种成套设备的基础上,又设计了24~28英寸的真空坩埚制造设备。"<"br />真空石英坩埚制品特别适用拉单晶炉拉制低氧碳大直径硅单晶用。它具有热稳定性好,能在高温下连续工作时间长,并且在使用过程中,没有软化和塌边现象,无高温开裂鼓泡现象,与熔硅长时间接触融入量小,降低了单晶中的氧含量,提高了单晶的质量,且高温下不形成方石英颗粒,易于拉晶控制,性能稳定。该产品性能优越,具有纯度高、 杂质含量低、几何尺寸偏差小,无气泡,无析晶现象等优点,技术水平达到国际先进水平,具有很高的推广价值。"<"br /> 该技术主要只利用高纯石英砂,在超净环境下真空烧制而成。具有高纯度、耐高温等优良理化性能。该产品完全能满足美国GE、日本申和 以及国际通用标准DHS。"<"br /> 真空电弧涂层法生产石英玻璃坩埚这一具有高技术含量的新工艺,制造的高纯度石英坩埚壁体分不透明和透明两层。在坩埚内表面有一层,其典型的厚度为0.6mm~2.0mm. 该透明层内没有气泡,且透明层的制造原料纯度高,可以保证坩埚长时间使用不容易析晶。另外,为了不使埚内极少量的金属原子游离,防止杂质离子扩散引起沾污,我们开发了涂钡技术。以上新技术均为国际先进水平。与普通石英玻璃坩埚相比,不仅具有更加优越的抗析晶能力和更好的热稳定性,并可提高坩埚的利用率,降低单晶硅生产企业的生产成本。"<"br /> 目前该产品规格可达直径12-22英寸,二氧化硅含量大于99.9%,金属杂质含量小于30ppm,其中A1,Na、K微量杂质含量优于日本公司同类产品指标。"<"/font>"<"/p>